电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。

法国PLASSYS公司的磁控溅射和电子束蒸镀设备已经成熟应用于约瑟夫森结的制备，MBE550SL3是最典型的配置，用于约瑟夫森结生产，具备UHV、三腔体、多功能（清洗、刻蚀、蒸镀、氧化）等特点。其性能指标如下：4英寸薄膜均匀性优于±3%、隧道结成功制备率大于98%、结室温电阻方差小于3.5%。已经被世界范围内著名的超导量子比特小组认可和采用。

代表用户： 美国(Yale Univ., Princeton Univ., UCSB, Chicago Univ.,  Raytheon, Google, IBM, MIT), 加拿大(Waterloo Univ., Sherbrooke Univ.), 英国(Glasgow Univ.), 德国(KIT Karlsruhe, Dresden Univ.), 法国(CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, INPG, Institute of Neel), 瑞士(ETH Zurich, Geneva Univ.), 瑞典(Chalmers Univ.), 意大利(STMicroelectronics), 俄罗斯(SKOLKOVO), 日本(NTT, KIKEN, Tokyo Univ.), 中国(CAS, Tsinghua, USTC, NJU) .