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磁控溅射
多靶共焦溅射镀膜设备(用于半导体膜、介电膜制备)
磁控溅射用于单层膜/多层膜/磁性膜制备
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阴极反应溅射镀膜系统
金属膜/氧化膜专用磁控溅射系统(RHEED/等离子体清洗)
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多阴极磁控溅射镀膜仪 (confocal sputtering system)
提供金属膜/半导体膜/绝缘膜镀膜服务
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