我们提供MPCVD （Microwave plasma-assisited Chemical Vapor Depositon）系统，用于高纯度单晶沉积及掺杂研究(high purity single crystal diamond and doping)/大面积光学级厚膜沉积（larger area optical grade polycrystalline diamond）/大面积超纳米晶沉积(large area UNCD)以及类金刚石(DLC)/碳纳米管(CNT)的沉积。

生长单晶特点（for single crystal diamond）：纯度高（无色透明，N浓度为ppb）、速率快（50μm/h）、多种子沉积（可一次性沉积数十片10x10金刚石单晶）；购买设备附带单晶生长工艺培训，并且把单晶现场生长作为交付验收条件.

生长多晶特点（for polycrystalline diamond）：光学级高纯度（无色透明colourless）、生长速率快>5μm/h、大面积（3-4, 6-8,8-12英寸可选配）；

我们也提供HFCVD（Hot filament CVD）设备，用于沉积3D diamond coating / diamond dome 或 freestanding thin / thick diamond film沉积，有效沉积面积可达0.5个平方米（as large as 0.5m2 coatings）。

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