经过我公司和原厂工程师一周的安装、调试、培训，圆满地完成了某高校MPCVD设备的交付验收；用户对该设备整体性能及技术指标十分满意！

我公司提供给客户的微波等离子体化学气相沉积系统设计十分巧妙，主要体现在设备稳定性极好（等离子形状、稳定、定位等）、生长工艺先进（自支撑光学级薄膜-无衬底）、特殊的样品台设计使得用户可以一次性生长厚单晶、专有的gas shower适合于单晶/多晶生长。该设备在欧洲及中国得广泛使用和推崇，并且具有良好的声誉。用户使用该设备可以制备超高纯度金刚石单晶（杂质可以低于1ppb）、多种子生长单晶金刚石（2-19片每次）、一次性生长厚单晶（可达2mm以上）、生长光学级金刚石窗口（自支撑厚膜）等方面研究和生产；PLASSYS公司技术总监Dr. SMUTEK现场演示单晶生长、多晶生长，获得用户好评。

我们目前可以向中国客户提供：6kW, 2.45GHz 微波等离子体化学气相沉积系统，以及35kW,915MHz 微波等离子体化学气相沉积系统。

上述设备也获得了国内商业公司意向订单。

我公司还提供金刚石相关的其他设备，包括：纳米晶金刚石制备设备、热丝化学气相沉积系统、CVD单晶金刚石合成设备、CVD光学级金刚石窗口合成、微波等离子化学气相沉积、工具级金刚石涂层制备、金刚石单晶/多晶掺杂、CVD金刚石单晶及其应用、高温高压金刚石单晶、金刚石切割抛光及检测设备，欢迎有兴趣的客户咨询我们！