根据近样、离子束刻蚀、蒸镀、溅射、氧化等功能在不通腔体中实现方式，PLASSYS提供2腔体、3腔体、4腔体、5腔体的电子束蒸镀及磁控溅射设备，并根据用户的预算情况，PLASSYS可以提供电子束蒸镀系列设备MEB550S, MEB550SL, MEB550S2, MEB550S2-I, MEB550S3, MEB550S4-I, MEB550SL3, MEB700S2-II, MEB700SL4, MEB700SL5等多种型号电子束蒸镀设备，以及MP350S， MP600S、MPE550S, MP700S等型号磁控溅射设备。

目前包括中国科学院物理所、清华大学、南方科技大学、苏州纳米所、上海微系统所、中科大、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备；在国际上也获得了美国(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英国（Glasgow  Univ）、德国（KIT Karlsruhe, Dresden  Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄罗斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等国家的著名机构的高度认可。