关键词：多靶磁控溅射、共溅射、Co-sputter、金属膜、氧化膜、半导体膜、非金属膜、约瑟夫森结、
超导、量子器件、量子比特、 Qubit、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、
sputtering system、Josephson junction
设备型号：MP600S; 产地：欧洲； 应用：制备铌基超导结或溅射其他膜材
磁控溅射镀膜系统可以沉积各种金属、半导体、非金属薄膜，又特别适合用于超导量子结、约瑟夫森结等量子器件的制备，例如：超导Nb、NbN、NbTiN及其他材料等，
目前，包括中国科学院物理所、清华大学、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备；在国际上也获得了美国(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英国（Glasgow Univ）、德国（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄罗斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等国家的著名机构的高度认可。
