关键词：热障层、红外波导、lift-off工艺、HMET晶体管、PHMET晶体管、

              欧姆接触、肖特接触、磁性材料、MEMS封装、约瑟夫森电路

用于金属薄膜沉积、金属化

6个坩埚分别为：Pd, NiCr, Au, Ge, Ti, Ni

最佳衬底大小为3英寸

主腔体采用扩散泵，LOAD LOCK采用分子泵

采用10kW电子束蒸发源

配备等离子体清洗衬底

全自动电脑控制、半自动和手动模式可用

支持远程维护和操作