关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、

                磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射

                             连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

型号：MP600S，  产地：欧洲 ，   应用：制备单层/多层金属薄膜。

多靶反应磁控溅射镀膜仪是微米纳米器件制备的必备设备，可用于制备单层/多层金属薄膜等，适用于半导体，光电子学，光子学，微机电系统（MEMS）和微流体技术等领域。

反应腔体：内径为600mm，高度300mm，采用电化学抛光不锈钢

真空系统：采用1500 l/s低温泵+15m³/h 干泵

                  采用薄膜真空计、潘宁/皮拉尼真空计

衬底尺寸：最大可加载4英寸衬底

                  采用电阻加热可达500℃

                  采用K型热电偶测温

磁控阴极：四个6英寸磁控阴极，

                  与样品台的距离手动可调（7-15cm）

                  每个阴极配备一个 圆柱形挡板，防止 污染

                  每个阴极配备一个电气阀

                  每个阴极都可以是直流或射频模式

阴极电源：一个300W 13.56MHz射频电源（可以升级到2kW）

                  射频转换开关可用于溅射或衬底清洗

                  一个2kW 直流电源

偏置电压：10V-300V可调

反应气路：分别为Ar、N2、O2气路，每个气路配备MFC

Load Lock：采用Al合金腔体，手动样品传动臂。

                     采用主腔体干泵抽气

控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用

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