我公司能够提供下列服务：

电子束曝光：制备光刻胶图像作为掩膜，最小可以制备线宽为7nm的图像；

紫外曝光：可以制备不同厚度的光刻胶图像作为掩膜，最小线条为1um；

牛津深硅刻蚀，深宽比至少可以达到10:1，可以把250um的硅片刻蚀穿透，且侧壁陡直光滑、不长草；

德国 ICP等离子刻蚀，可以刻蚀各种金属、氧化物、半导体等材料；

测试SEM/EDS、台阶仪、椭偏仪器、安捷伦半导体分析仪、AFM、XPS以及划片机（切割硅片、玻璃、蓝宝石等）等

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