关键词：RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、

                过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

型号：MU700S;    产地：欧洲；  

应用：过渡金属, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;

代表性用户：法国科学研究中心（CNRS）、意法半导体（ST）

RFICP源：束径可达 220 mm

采用分子泵或低温泵+干泵组合真空系统

均匀性：+/- 5%  on 290 mm衬底

水冷样品台，衬底尺寸最大可达直径300mm

样品台可以倾斜和旋转

配套SIMS用于刻蚀监控

配置Load Lock