关键词: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石、微波等离子体化学气相沉积系统
CVD金刚石合成设备、纳米晶金刚石、超纳米晶金刚石、UNCD、NCD、MCD、大面积金刚石窗口
Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System
微波等离子化学气相沉积系统特点概述
适用范围：生长大面积金刚石薄膜(4-8英寸，甚至更大)
生长速度：可高达几μm-几十μm/h，甚至更高；
大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：
微波功率：915MHz，36KW / 54kW；
反应腔体：铝合金+石英管；
水冷衬底：直径150mm或更大; 衬底旋转可选.
真空系统：干泵+TMP（营造高真空基准）；
控制系统：全自动（适合大批量生产）；
生长速率：up to 5μm/h, 或更 高速率
整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4’’-8’’光学级金刚石厚膜（several mm thicknesses），也可以用于研究合成diamond dome.
生长大面积光学窗口、探测窗口、微波窗口等，请详细咨询！
