高品质大面积光学薄膜沉积系统
1. 主腔体：圆柱形304不锈钢、长方形前门、2个观察窗口、大约1000L
2. 真空系统：螺旋泵80m3/h+低温泵10,000 l/s (N2)
3. 离子源：RF耦合（2MHz）, filament-free离子源用于惰性气体和氧气
束径100mm， 电流＞200mA，电子能量1-2 KeV
工艺气体：4个流量控制机，用于氧气、稀有气体
Ar等离子体，电子束流最大500mA
3a. 离子源升级：代替标准离子源（3）
RF耦合（2MHz）, filament-free离子源用于惰性气体和氧气
束径150mm，电流大于500mA，电子能量大于1 KeV
工艺气体：4个流量控制器，用于氧气、稀有气体等
Ar等离子体，电子束流最大900mA
3b. 辅助离子源：RF耦合（2MHz）, filament-free离子源用于Ar和氧气
工艺气体：2个流量控制器，氧气和稀有气体
束径100mm，离子能量200-1000 eV，束流0-200mA
4. 靶 400m×200mm （标准3）；400mm×250mm（选项3a）
标准材料：Ta＞99.998%，Si＞99.999%
4a. 可选靶 200mm×200mm 或200mm×250mm
材料：Nb>99.95%, HfO2>99.99%, Al>99.999%, Ti>99.99%
更高纯度或其他材料可以提要求
5 样品台 平面、真空兼容Al样品台
Bottom-up coating 法
沉积区域直径200mm（标准3）、沉积区域直径350mm（选项3a）
旋转速度0-120rpm
5a. Load Lock可选
直径400mm，最大加载重量5kg
螺旋泵+分子泵抽高真空
手动加载，自动送样
5b. 衬底加热可选
石英加热器，最小功率1.6KW，衬底温度280℃
采用热电偶控温
6. OMS 波长范围380-1050nm
波长分辨率2nm
测量误差补偿＜0.2%
测量误差噪音<1%峰值（@650nm）
全自动控制
积分时间：2ms
6a. DUV可选 DUV延长宽波段OMS
波长范围230-380nm
波长分辨率2nm
测量误差补偿＜2%
测量误差噪音<1%峰值（@350nm）
积分时间：10ms
6b. IR可选 波长范围900-1700nm
波长分辨率5nm
测量误差补偿＜2%
测量噪音<1%峰值（@1200nm）
积分时间：12ms
7 系统性能表现：
真空度 基准真空度＜3×10-7mbar
工作气压＜1×10-3mbar
标准靶 沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @200mm直径 （标准3）
沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @350mm直径(3a选项)
薄膜均匀性 优于±1%@<直径200mm（标准3）
优于±1%@<直径350mm（选项3a）
